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单晶收尾工艺专利

发布时间:2025-02-17 09:26:04 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 单晶收尾工艺

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申请/专利权人:三一硅能(朔州)有限公司

申请日:2024-11-28

公开(公告)日:2025-02-11

公开(公告)号:CN119411216A

专利技术分类:.控制或调节(一般的控制或调节入G05)[2006.01]

专利摘要:本发明涉及单晶硅生产技术领域,尤其涉及一种单晶收尾工艺。所述单晶收尾工艺采用直拉法拉制单晶硅棒至收尾工序,包括以下步骤:S1:控制晶升为第一提拉速度,晶转为晶体第一旋转速度;停止坩升,控制埚转为坩埚第一旋转速度;S2:控制晶升为第二提拉速度,晶转为晶体第二旋转速度;控制埚转为坩埚第一旋转速度;S3:控制晶升为第三提拉速度,晶转为晶体第三旋转速度;控制埚转为坩埚第一旋转速度;其中,第一提拉速度小于所述第三提拉速度,第二提拉速度小于第一提拉速度;晶体第一旋转速度大于晶体第二旋转速度,晶体第二旋转速度大于晶体第三旋转速度。本发明通过优化收尾工艺参数,能够显著优化收尾形状,大大提高了收尾成活率。

专利权项:1.一种单晶收尾工艺,其特征在于,采用直拉法拉制单晶硅棒至收尾工序,所述收尾工艺包括以下步骤:S1:收尾前期:控制晶升为第一提拉速度,晶转为晶体第一旋转速度;停止坩升,控制埚转为坩埚第一旋转速度;S2:收尾中期:控制晶升为第二提拉速度,晶转为晶体第二旋转速度;控制埚转为坩埚第一旋转速度;S3:收尾后期:控制晶升为第三提拉速度,晶转为晶体第三旋转速度;控制埚转为坩埚第一旋转速度;其中,所述第一提拉速度小于所述第三提拉速度,所述第二提拉速度小于所述第一提拉速度;所述晶体第一旋转速度大于所述晶体第二旋转速度,所述晶体第二旋转速度大于晶体第三旋转速度。

百度查询: 三一硅能(朔州)有限公司 单晶收尾工艺

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