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申请/专利权人：捷造科技(宁波)有限公司
申请日：2023-08-21
公开（公告）日：2025-02-21
公开（公告）号：CN119491205A
专利技术分类：..产生反应气流的方法，例如通过母体材料的蒸发或升华[2006.01]
专利摘要：本发明公开了一种PECVD镀膜机蒸发源实现方法，包括：将蒸发源使用药剂按照预设的工艺参数放入药剂罐；利用真空负压建立药剂从所述药剂罐中流出的管路；根据镀膜工艺时间和用量控制流出的药剂进入蒸发机构的滴量。本发明的优点是：药剂和加热分开，防止药剂长时间加热变质和失效，而且用量能精准控制，清洁和换药剂方便，药剂罐可设计成快插式接口，可以用多个药剂罐交替使用。成本低，有效避免药剂的腐蚀性和结晶体对流量计和流量泵的损坏从而影响精度，计量简便准确，镀膜均匀质量高。
专利权项：1.一种PECVD镀膜机蒸发源实现方法，其特征在于，包括：将蒸发源使用药剂按照预设的工艺参数放入药剂罐；利用真空负压建立药剂从所述药剂罐中流出的管路；根据镀膜工艺时间和用量控制流出的药剂进入蒸发机构的滴量。
百度查询： 捷造科技(宁波)有限公司 一种PECVD镀膜机蒸发源实现方法
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