恭喜国际商业机器公司N.V.特里维诺获国家专利权
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龙图腾网恭喜国际商业机器公司申请的专利半导体结构的制造获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115485860B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180032583.4,技术领域涉及:H01S5/12;该发明授权半导体结构的制造是由N.V.特里维诺;K.E.莫塞伦德;M.谢勒设计研发完成,并于2021-04-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体结构的制造在说明书摘要公布了:一种用于制造半导体结构的方法。该方法包括制造第一材料的光子晶体结构113,以及选择性地去除光子晶体结构113的预定义部分内的第一材料,该第一材料尤其是第一半导体材料。该方法还包括通过选择性外延,用一种或多种第二材料替换光子晶体结构113的预定义部分内的第一材料。该一种或多种第二材料尤其可以是半导体材料。通过这种方法可获得的器件。
本发明授权半导体结构的制造在权利要求书中公布了:1.一种用于制造半导体结构的方法,所述方法包括:制造第一材料的光子晶体结构;用第三材料封装所述第一材料的所述光子晶体结构;选择性地去除所述光子晶体结构的预定义部分内的所述第三材料的部分,来形成窗口;通过所述窗口选择性地去除所述光子晶体结构的预定义部分内的第一材料;以及通过选择性外延,用一种或多种第二材料替换被去除的所述光子晶体结构的所述预定义部分内的第一材料。
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