恭喜三星电子株式会社文勇升获国家专利权
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龙图腾网恭喜三星电子株式会社申请的专利表膜和包括其的掩模版获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN110119064B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:201910066838.3,技术领域涉及:G03F1/48;该发明授权表膜和包括其的掩模版是由文勇升;金熙范;丁昶荣设计研发完成,并于2019-01-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本表膜和包括其的掩模版在说明书摘要公布了:本发明涉及表膜和包括其的掩模版。提供待用于光刻工艺的表膜。该表膜包括如下的膜,所述膜的至少一部分包括碳同素异形体。所述膜具有第一表面和与所述第一表面相反的第二表面,该膜包括包含掺杂剂的掺杂区域,该掺杂区域与所述第一表面相邻,所述掺杂剂包括硼或氮的至少一种,以及所述掺杂区包括所述掺杂剂的至少一种的原子与碳原子之间的键。
本发明授权表膜和包括其的掩模版在权利要求书中公布了:1.表膜,包括:膜,所述膜的至少一部分包括碳同素异形体,其中所述膜具有第一表面和与所述第一表面相反的第二表面,所述膜包括包含掺杂剂的掺杂区域,所述掺杂区域与所述第一表面相邻,所述掺杂剂包括硼或氮的至少一种,以及所述掺杂区域包括所述掺杂剂的至少一种的原子与碳原子之间的键。
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