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龙图腾网恭喜中国科学院光电技术研究所申请的专利一种基于运动补偿模型的投影光刻机掩膜预对准方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119292017B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411815440.2，技术领域涉及：G03F9/00；该发明授权一种基于运动补偿模型的投影光刻机掩膜预对准方法是由李昱阳;胡淘;孙海峰;杨瑞琳;李艳丽;周吉;龚健文设计研发完成，并于2024-12-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于运动补偿模型的投影光刻机掩膜预对准方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于运动补偿模型的投影光刻机掩膜预对准方法，属于光刻领域。本发明首先建立了掩膜台运动补偿模型，补偿R轴移动带来的旋转偏差以及X、Y方向上的位移误差。接着，基于预对准图像算法获取对准标记的精确坐标，并结合运动补偿模型驱动伺服电机，使掩膜台沿X、Y和R方向进行相应的调整，最终进入对准位置。本发明通过对掩膜台运动的精确控制，确保了掩膜的预对准精度，有效提高了掩膜与硅片对准的整体精度，进而提升了光刻工艺的稳定性和可靠性。本发明在降低对准误差的同时，提高了光刻工艺的生产效率，具有广泛的工业应用前景。

本发明授权一种基于运动补偿模型的投影光刻机掩膜预对准方法在权利要求书中公布了：1.一种基于运动补偿模型的投影光刻机掩膜预对准方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：步骤S1：通过投影光刻机左右掩膜预对准相机以及用于测量的掩模版对掩膜台R轴运动进行测量，并根据测量结果进行分析计算，建立掩膜台R轴运动补偿模型；步骤S2：基于掩膜预对准图像算法，结合掩膜台R轴运动补偿模型，对掩膜上预对准定位标记进行识别并对其计算调整量，使其进入曝光设定位置；所述步骤S1包括以下步骤：步骤S11：利用具有刻度值的特定掩模版，分别在左右掩膜预对准相机中测量R轴移动后X、Y方向的变化量，特定掩模版的纵向刻度值用于测量R轴移动后的Y方向变化，横向刻度值用于测量X向变化，根据预设的步进距离移动R轴后，记录左右掩膜预对准相机中左侧与右侧标记的X、Y坐标，计算出相应的变化量；步骤S12：根据测得的左右侧标记的变化量，计算出掩膜的旋转角度，利用R轴移动量与掩膜旋转角度之间的对应关系，进行反向拟合，得到R轴运动与掩膜旋转角度的一元一次函数关系；步骤S13：建立掩膜的运动模型，根据掩膜旋转前后左右侧标记的变化量，计算Y向和X向的偏移量，并通过拟合方法得到Y向与X向偏移量与R轴运动的关系，构造掩膜台R轴运动补偿模型；与分别表示掩膜中心水平线的左端点与右端点，表示掩膜中心水平线的中点，为的中点，与分别表示旋转后左右标记的变化量，而则是掩膜旋转带来的Y向偏移量；由计算得出偏移量，为相对于的旋转角度，的长度由式（3）计算得出，其中，均为掩膜旋转半径； （3）。

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