恭喜东丽尖端素材株式会社崔荣祐获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜东丽尖端素材株式会社申请的专利单价阴离子选择性离子交换膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114423808B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080065971.8，技术领域涉及：C08J5/22；该发明授权单价阴离子选择性离子交换膜是由崔荣祐设计研发完成，并于2020-08-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本单价阴离子选择性离子交换膜在说明书摘要公布了：公开一种单价阴离子选择性离子交换膜以及制备所述离子交换膜的方法。对于所述单价阴离子选择性离子交换膜的结构而言，表面部分的阳离子交换聚合物电解质的含量比较高，中心部分的阴离子交换聚合物电解质的含量比较高，并且，阴离子交换聚合物电解质相对于阳离子交换聚合物电解质的含量比在厚度方向上从表面向中心连续增加。由于这样的结构，与单价阴离子相比，多价阴离子交换膜渗透率显著减少，因此可以对单价阴离子具有高选择性。
本发明授权单价阴离子选择性离子交换膜在权利要求书中公布了：1.一种单价阴离子选择性离子交换膜，其包括：具有多孔结构的聚合物支持体；以及浸渍于所述聚合物支持体中的离子交换聚合物电解质，其中，所述离子交换聚合物电解质包括阴离子交换聚合物电解质和阳离子交换聚合物电解质，阴离子交换聚合物电解质浸渍到所述聚合物支持体中心部分，阳离子交换聚合物电解质浸渍到所述聚合物支持体表面部分，并且，在所述聚合物支持体的厚度方向上，从所述聚合物支持体的表面向所述聚合物支持体的中心，阴离子交换聚合物电解质相对于所述阳离子交换聚合物电解质的含量比连续增加。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东丽尖端素材株式会社，其通讯地址为：韩国庆尚北道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号