恭喜朗姆研究公司维纳亚卡拉迪·古拉巴尔获国家专利权
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龙图腾网恭喜朗姆研究公司申请的专利预防半导体衬底处理中基座上的沉积获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112534558B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980051139.X，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权预防半导体衬底处理中基座上的沉积是由维纳亚卡拉迪·古拉巴尔;拉维·韦兰基;盖瑞·B·利德;迈克尔·拉莫;曼朱纳斯·萨蒂亚德万设计研发完成，并于2019-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本预防半导体衬底处理中基座上的沉积在说明书摘要公布了：一种用于在衬底处理系统中的衬底支撑件的隔热结构包含外罩，其被构造成环绕所述衬底支撑件的杆。所述外罩还被构造成限定所述外罩与所述杆的上部和所述衬底支撑件的下表面之间的内部容积以及所述外罩与所述衬底支撑件的所述杆的下部之间的竖直通道。所述外罩包含：圆柱状部；第一横向部，其从所述圆柱状部径向向外延伸；斜角部，其从所述第一横向部径向向外且向上延伸；以及第二横向部，其从所述斜角部径向向外延伸。
本发明授权预防半导体衬底处理中基座上的沉积在权利要求书中公布了：1.一种用于在衬底处理系统中的衬底支撑件的隔热结构，所述隔热结构包含：外罩，其被构造成环绕所述衬底支撑件的杆，其中所述外罩还被构造成限定i所述外罩与所述衬底支撑件的所述杆之间的内部容积以及ii所述外罩与所述衬底支撑件的下表面之间的内部容积；至少一个隔热板，其被构造成配置在所述衬底支撑件下方并且在介于所述外罩和所述衬底支撑件的所述下表面之间的所述内部容积中；内罩，其配置在所述外罩与所述杆之间，其中所述内罩从所述至少一个隔热板向下延伸，并且限定所述内罩与所述杆之间的第二内部容积；以及边缘防护件，其从所述外罩向上延伸，其中所述边缘防护件被构造成i环绕所述衬底支撑件的外周缘，以及ii限定所述边缘防护件以及所述衬底支撑件之间的间隙。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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