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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利湿法刻蚀时采用的挡板获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222785265U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421440148.2，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型湿法刻蚀时采用的挡板是由谢玟茜设计研发完成，并于2024-06-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本湿法刻蚀时采用的挡板在说明书摘要公布了：本发明提供一种湿法刻蚀时采用的挡板，挡板包括：防反溅结构，包括：第一垂直板，第一垂直板设于晶圆的一侧，其顶端具有向晶圆延伸的第一延伸部；贯穿第一垂直板的垂直开口，垂直开口设置在从晶圆表面甩出的刻蚀液的运动轨迹上，使得刻蚀液从垂直开口穿过；水平减速板，水平减速板固定设置于第一垂直板的远离晶圆的一侧；遮挡板，遮挡板是具有小于180°夹角的曲折结构，并位于垂直开口的上方；第二垂直板，第二垂直板设于遮挡板远离晶圆的一侧，其顶端具有向遮挡板延伸的第二延伸部；外围倾斜板，外围倾斜板设于遮挡板的上方。通过本发明解决了现有的刻蚀液飞溅的问题。

本实用新型湿法刻蚀时采用的挡板在权利要求书中公布了：1.一种湿法刻蚀时采用的挡板，其特征在于，所述挡板放置于晶圆的外围，包括：用于对所述晶圆甩出的刻蚀液进行减速的防反溅结构，所述防反溅结构包括：第一垂直板，所述第一垂直板设于所述晶圆的一侧，且竖直放置，并与所述晶圆之间具有间距，其顶端具有向所述晶圆延伸的第一延伸部；垂直开口，贯穿所述第一垂直板，且所述垂直开口设置在从所述晶圆表面甩出的刻蚀液的运动轨迹上，使得刻蚀液从所述垂直开口穿过；水平减速板，所述水平减速板固定设置于所述第一垂直板的远离所述晶圆的一侧，且位于所述垂直开口的下方；遮挡板，所述遮挡板是具有小于180°夹角的曲折结构，其固定设置于所述第一垂直板远离所述晶圆的一侧，并位于所述垂直开口的上方，且所述遮挡板的最低端位于所述水平减速板的上方；第二垂直板，所述第二垂直板设于所述遮挡板远离晶圆的一侧，且竖直放置，并与所述遮挡板之间具有间距，其顶端具有向所述遮挡板延伸的第二延伸部；外围倾斜板，所述外围倾斜板设于所述遮挡板的上方，其第一端与所述第一垂直板的第一延伸部固定连接，其第二端与所述第二延伸部固定连接。

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