恭喜中节能万润股份有限公司付海超获国家专利权
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龙图腾网恭喜中节能万润股份有限公司申请的专利一种用于ArF浸没式光刻胶顶层涂层的组合物及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114153124B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111631540.6，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权一种用于ArF浸没式光刻胶顶层涂层的组合物及其制备方法是由付海超;赵洪祥;刘文昭;邹广辉;马乐设计研发完成，并于2021-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于ArF浸没式光刻胶顶层涂层的组合物及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于ArF浸没式光刻胶顶层涂层的组合物，所述的组合物包括聚合物I、聚合物II、光致产酸剂和电子级溶剂，所述的聚合物I和聚合物II结构式如下：a选自40‑70％，b选自1‑10％，c选自30‑60％；x选自1‑10％，y选自1‑10％，z选自80～95％；聚合物I和聚合物II的分子量选自1000‑30000Da，分子量分散系数选自1.0‑4.0。所述顶层涂层组合物具有较高的后退角，可减少光致产酸剂在浸没流体中的沥出。
本发明授权一种用于ArF浸没式光刻胶顶层涂层的组合物及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种用于ArF浸没式光刻胶顶层涂层的组合物，其特征在于，所述的组合物包括聚合物I、聚合物II、光致产酸剂和电子级溶剂，所述的聚合物I和聚合物II结构式如下： ；a、b、c、x、y、z分别为聚合物重复单元的质量分数，a选自50-60%；b选自3-7%；c选自37-43%；x选自3-5%；y选自3-7%；z选自90-94%；聚合物I和聚合物II的分子量选自10000-15000Da，分子量分散系数选自1.0-2.0；所述聚合物I占组合物的质量分数为2-4%，聚合物II占组合物的质量分数为4-6%，光致产酸剂占组合物的质量分数为0.02-0.04%。
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