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龙图腾网恭喜上海华力集成电路制造有限公司申请的专利采用可视化编辑图形数据库处理辅助图形的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114117573B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111409229.7，技术领域涉及：G06F30/12；该发明授权采用可视化编辑图形数据库处理辅助图形的方法是由汪牡丹;于世瑞设计研发完成，并于2021-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本采用可视化编辑图形数据库处理辅助图形的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种采用可视化编辑图形数据库处理辅助图形的方法，包括：步骤S1，建立目标图形数据库；所述目标图形数据库包括多个目标图形，每个目标图形包括主图形和辅助图形；步骤S2，定义图形搜索范围的尺寸；步骤S3，定义图形匹配的限定条件；所述限定条件包括主图形的锚点和辅助图形的线宽尺寸范围；步骤S4，对整个测试版图进行图形扫描，找到符合所述限定条件的匹配图形，标记所述匹配图形并输出匹配图形和标记的版图数据；步骤S5，依据匹配图形的版图数据，确定至少一个辅助图形。

本发明授权采用可视化编辑图形数据库处理辅助图形的方法在权利要求书中公布了：1.一种采用可视化编辑图形数据库处理辅助图形的方法，其特征在于，包括：步骤S1，建立目标图形数据库；所述目标图形数据库包括多个目标图形，每个目标图形包括主图形和辅助图形；步骤S2，定义图形搜索范围的尺寸；步骤S3，定义图形匹配的限定条件；所述限定条件包括主图形的锚点和辅助图形的线宽尺寸范围；步骤S4，对整个测试版图进行图形扫描，找到符合所述限定条件的匹配图形，标记所述匹配图形并输出匹配图形和标记的版图数据；步骤S5，依据匹配图形的版图数据，确定至少一个辅助图形；所述步骤S5中，采用对输出的匹配图形的版图数据进行OPC运算的方法，确定至少一个辅助图形；根据OPC运算输出的第一参数、第二参数、第三参数、第四参数和第五参数评估确定所述辅助图形；所述第一参数为归一化图像对数斜率Nils；所述第二参数为掩膜误差增强系数Meef；所述第三参数为工艺窗口变化带PVband；所述第四参数为工艺窗口DOF；所述第五参数为最大光学强度；所述评估确定所述辅助图形的原则为第五参数Imax小于OPC模型阈值，且衡量第一参数与第四参数的比值（NilsDOF），和第二参数与第三参数的比值（MeefPVband）；所述第一参数与第四参数的比值越大越优，所述第二参数与第三参数的比值越小越优。

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