恭喜雷杰科技股份有限公司陈鸿隆获国家专利权
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龙图腾网恭喜雷杰科技股份有限公司申请的专利晶粒去除装置及晶粒去除方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115990719B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111208031.2，技术领域涉及：B23K26/70；该发明授权晶粒去除装置及晶粒去除方法是由陈鸿隆设计研发完成，并于2021-10-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶粒去除装置及晶粒去除方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种晶粒去除装置，适于去除载板上预定去除的至少一晶粒。此晶粒去除装置包括载台、光源、光罩以及移动机构。载台适于承载载板。光源适于提供光束。光罩配置于载台与光源之间，光罩具有多个图案单元，每一个图案单元具有至少一个透光图案，每一个透光图案对应于一个晶粒，且图案单元的透光图案的排列方式不同。移动机构连接光罩，并适于移动光罩使光束通过一个图案单元而照射于预定去除的至少一个晶粒。本发明另提出一种晶粒去除方法。
本发明授权晶粒去除装置及晶粒去除方法在权利要求书中公布了：1.一种晶粒去除装置，适于去除一载板上预定去除的至少一晶粒，其特征在于，该晶粒去除装置包括：一载台，适于承载该载板；一光源，适于提供一光束；一光罩，配置于该载台与该光源之间，其中该光罩具有多个图案单元，每一该些图案单元具有至少一透光图案，每一该至少一透光图案对应于该些晶粒其中之一，且该些图案单元的该至少一透光图案的排列方式不同；以及一移动机构，连接该光罩，并适于移动该光罩使该光束通过该些图案单元其中之一而照射于预定去除的该至少一晶粒；其中，每一该些图案单元的该至少一透光图案排列成M×N阵列，M与N为正整数，且任一该些图案单元的M、N的数值至少有一个不同于与另一该些图案单元的M、N的数值。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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