恭喜信越化学工业株式会社高坂卓郎获国家专利权
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龙图腾网恭喜信越化学工业株式会社申请的专利相移型光掩模坯料和相移型光掩模获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110955109B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910914432.6，技术领域涉及：G03F1/26；该发明授权相移型光掩模坯料和相移型光掩模是由高坂卓郎;小泽良兼设计研发完成，并于2019-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本相移型光掩模坯料和相移型光掩模在说明书摘要公布了：本发明提供相移型光掩模坯料和相移型光掩模。具体提供一种相移型光掩模坯料，其包括透明衬底和其上的相移膜，所述相移膜由单层或多层组成，所述单层或多层包括选自由过渡金属、硅、氮和氧构成的层和由硅、氮和氧构成的层中的至少一层，对于波长为200nm以下的光，所述相移膜的相移为150°至250°，透射率为60％至80％，所述相移膜的厚度为150nm以下，以及由过渡金属、硅、氮和氧构成的层的作为过渡金属与过渡金属和硅的总含量之比的含量原子比为0.03以下。
本发明授权相移型光掩模坯料和相移型光掩模在权利要求书中公布了：1.一种相移型光掩模坯料，包含衬底和其上的相移膜，所述相移膜由多层组成，所述多层包含：由过渡金属、硅、氮和氧构成的层和选自由过渡金属、硅、氮和氧构成的层以及由硅、氮和氧构成的层中的至少一层，其中，对于波长为200nm以下的光，所述相移膜的相移为150°至250°，透射率为60%至80%，厚度为150nm以下，并且，由过渡金属、硅、氮和氧构成的层的作为过渡金属的含量与过渡金属和硅的总含量之比为0.001至0.03，以原子比计。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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