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龙图腾网恭喜上海朋熙半导体有限公司申请的专利半导体工艺配方参数的调整方法、系统、设备及介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119167797B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411648503.X，技术领域涉及：G06F30/27；该发明授权半导体工艺配方参数的调整方法、系统、设备及介质是由刘源;阙士芯设计研发完成，并于2024-11-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体工艺配方参数的调整方法、系统、设备及介质在说明书摘要公布了：本申请实施例涉及半导体技术领域，公开了一种半导体工艺配方参数的调整方法、系统、设备及介质，所述方法包括：利用包含一批或多批半导体工艺配方参数和对应产品良率的数据集训练多元回归模型；将待调整配方中的固定参数代入所述多元回归模型，以基于目标良率获取待调整配方中的待调整参数的数值或数值区间。通过本申请的方案，可以至少解决现有技术参数调整依赖于工程师的经验等，耗时耗力且决策的主观性和不一致性的技术问题。本申请能够预测关键工艺参数与良率的关系，给工程师做出智能推荐，提高生产效率。

本发明授权半导体工艺配方参数的调整方法、系统、设备及介质在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺配方参数的调整方法，其特征在于，包括：利用包含一批或多批半导体工艺配方参数和对应产品良率的数据集训练多元回归模型；其中包括：在制造过程中记录每批晶圆使用的工艺配方参数；对每批次中的部分晶圆进行抽样检测，所述检测包括CD量测；将检测结果与对应的工艺配方参数进行关联存储，以得到历史数据，所述历史数据包括工艺配方名称、晶圆所属的产品号、工艺配方参数的数值和或晶圆CD量测的合格状态；基于历史数据构建数据集，以对多元回归模型进行训练；将待调整配方中的固定参数代入所述多元回归模型，以基于目标良率获取待调整配方中的待调整参数的数值或数值区间，包括：获取参数调整指令；响应于参数调整指令对待调整配方中的参数进行划分，以得到固定参数和待调整参数；将固定参数的数值作为自变量代入所述多元回归模型，以得到一元回归模型；将设定的目标良率作为因变量代入所述一元回归模型，以对待调整参数的自变量进行求解；基于求解的结果获取待调整参数的数值或数值区间；呈现所述一元回归模型的曲线图；基于设定步长呈现所述曲线图的数值表格。

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