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龙图腾网恭喜东京应化工业株式会社申请的专利抗蚀剂组合物纯化品的制造方法、抗蚀剂图案形成方法、及抗蚀剂组合物纯化品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114008525B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080044627.0，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权抗蚀剂组合物纯化品的制造方法、抗蚀剂图案形成方法、及抗蚀剂组合物纯化品是由中田明彦;安部未来;斋藤弘树设计研发完成，并于2020-05-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本抗蚀剂组合物纯化品的制造方法、抗蚀剂图案形成方法、及抗蚀剂组合物纯化品在说明书摘要公布了：抗蚀剂组合物纯化品的制造方法,其包括工序ⅰ，即利用具有相邻的球状孔室彼此连通的多孔质结构的过滤器对抗蚀剂组合物进行过滤，上述过滤器具备多孔质膜，所述多孔质膜含有选自由聚酰亚胺及聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少一种树脂，上述抗蚀剂组合物含有对显影液的溶解性因酸的作用而发生变化的基材成分A、鎓盐、和有机溶剂成分S，上述有机溶剂成分S的含量为97质量％以上。

本发明授权抗蚀剂组合物纯化品的制造方法、抗蚀剂图案形成方法、及抗蚀剂组合物纯化品在权利要求书中公布了：1.抗蚀剂组合物纯化品的制造方法，其包括工序ⅰ，即利用具有相邻的球状孔室彼此连通的多孔质结构的过滤器对抗蚀剂组合物进行过滤，所述过滤器具备多孔质膜，所述多孔质膜具有选自由聚酰亚胺及聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少一种树脂，所述抗蚀剂组合物含有对显影液的溶解性因酸的作用而发生变化的基材成分A、鎓盐、和有机溶剂成分S，所述有机溶剂成分S的含量为97质量％以上，所述基材成分A包含具有下述通式a1-1或a1-2表示的结构单元的高分子化合物， 式a1-1或a1-2中，R为氢原子、碳原子数1～5的烷基或碳原子数1～5的卤代烷基，Va1为可具有醚键的二价烃基，na1为0～2的整数，Ra1为下述通式a1-r-1或a1-r-2表示的酸解离性基团，Wa1为na2+1价的烃基，na2为1～3的整数，Ra2为下述通式a1-r-1或a1-r-3表示的酸解离性基团， 式a1-r-1中，Ra’1、Ra’2为氢原子或烷基，Ra’3为烃基，且Ra’3可以与Ra’1、Ra’2中的任一者键合而形成环， 式a1-r-2中，Ra’4～Ra’6各自为烃基，且Ra’5、Ra’6可以彼此键合而形成环， 式a1-r-3中，Ra’7～Ra’9各自为烷基，所述鎓盐包含下述通式d1-1ˉd1-3中任一种表示的化合物， 式d1-1ˉd1-3中，Rd1～Rd4为可具有取代基的环式基团、可具有取代基的链状烷基、或可具有取代基的链状烯基，其中，式d1-2中的Rd2中的、与S原子相邻的碳原子未键合氟原子，Yd1为单键或二价连接基团，m为1以上的整数，Mm+各自独立地为m价的有机阳离子。

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