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龙图腾网恭喜南京工业大学申请的专利一种多模式低温等离子体金属表面薄膜沉积装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115717233B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210394992.5，技术领域涉及：C23C14/16；该发明授权一种多模式低温等离子体金属表面薄膜沉积装置及方法是由郑俣垚;刘泓麟;黄成硕;梁恒瑞;崔行磊;梅丹华;方志设计研发完成，并于2022-04-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多模式低温等离子体金属表面薄膜沉积装置及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种多模式低温等离子体金属表面薄膜沉积装置及方法，一种多模式低温等离子体金属表面薄膜沉积装置，包括同步传送机构、多组第一处理组件和第二处理组件，所述第一处理组件包括两个直接介质阻挡放电组件，所述第二处理组件包括两个间接介质阻挡放电组件，通过第一处理组件和第二处理组件的设置，可以选择单启动第一处理组件进行直接介质阻挡放电处理，实现高效快速的对金属箔进行沉积处理，还可以单启动第二处理组件进行间接介质阻挡放电处理，还可以同时启动第一处理组件和第二处理组件，利用第一处理组件充当对金属箔的预处理操作，然后再利用第二处理组件进行均匀的沉积处理。

本发明授权一种多模式低温等离子体金属表面薄膜沉积装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种多模式低温等离子体金属表面薄膜沉积装置，其特征在于：包括同步传送机构（1）、多组第一处理组件（7）和第二处理组件（8），所述第一处理组件（7）包括两个直接介质阻挡放电组件，所述第二处理组件（8）包括两个间接介质阻挡放电组件；所述直接介质阻挡放电组件包括电极开合机构（2）、气体流量计（6）和第一电极（3），所述气体流量计（6）固定设置于电极开合机构（2）上，所述第一电极（3）固定设置于电极开合机构（2）底部，所述第一电极（3）不接触的位于待处理的金属薄膜的表面，待处理的金属薄膜通过放电导辊接地，生成的等离子体直接作用于至待处理的金属薄膜表面；所述间接介质阻挡放电组件包括电极开合机构（2）、第二电极（9）和气体流量计（6），所述气体流量计（6）固定设置于电极开合机构（2）上，所述第二电极（9）固定设置于电极开合机构（2）靠近待加工金属的一侧，所述第二电极（9）中高低压电极相间并列排列，不接触的位于待处理的金属薄膜的表面，高低压电极之间的空腔生成的等离子体喷射于待处理的金属薄膜的表面；所述第一电极（3）和第二电极（9）均包括多个圆柱形实心钨铜合金（201），且第一电极（3）上的多根高压圆柱形实心钨铜合金成线性整列设置，所述第二电极（9）上的多根圆柱形实心钨铜合金成线性整列设置且高低压交错设置，直接介质阻挡放电组件和间接介质阻挡放电组件内侧均设置有放电导辊，且第一处理组件（7）和第二处理组件（8）的放电导辊直径大小不同；所述电极开合机构（2）还包括通气孔（204）和高压导线（203），所述通气孔（204）开设于电极开合机构（2）上，所述高压导线（203）固定连接于电极开合机构（2）上并且第一处理组件（7）和第二处理组件（8）的电极开合机构（2）上的高压导线（203）分别与第一高压纳秒脉冲电源（4）和第二高压纳秒脉冲电源（5）电性连接。

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