恭喜小林股份有限公司酒井圭介获国家专利权
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龙图腾网恭喜小林股份有限公司申请的专利离型膜以及离型膜的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114761198B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080072700.5，技术领域涉及：B29C33/68；该发明授权离型膜以及离型膜的制造方法是由酒井圭介;田中奈名恵设计研发完成，并于2020-03-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本离型膜以及离型膜的制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及提供一种具有静电扩散性的离型膜。本发明提供一种离型膜，具有：基材层，由聚酯类树脂形成；以及表面层，由含有导电性填料的四氟乙烯类树脂形成；并且表面电阻率Rs为1×1011Ω以下。优选为所述导电性填料包含碳黑，并且所述四氟乙烯类树脂进而含有依据雷射绕射式粒度分析测定法测定时的平均粒径为1μm至15μm的粒子。
本发明授权离型膜以及离型膜的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种离型膜，具有：基材层，由聚酯类树脂所形成；以及表面层，由含有导电性填料的四氟乙烯类树脂所形成；并且，表面电阻率Rs为1×1011Ω以下；所述导电性填料包含碳黑；所述碳黑包含科琴黑，所述科琴黑的平均粒径依据雷射绕射式粒度分析测定法测定时为3μm至17μm；所述碳黑进而包含炉黑；所述炉黑的邻苯二甲酸二正丁酯吸油量为200ml100g以下；所述四氟乙烯类树脂为含有含反应性官能基的四氟乙烯类聚合物及硬化剂的四氟乙烯类树脂组合物的硬化物；所述含反应性官能基的四氟乙烯类聚合物含有基于含羟基的单体的聚合单元及基于全氟烯烃的聚合单元；所述四氟乙烯类树脂包含二氧化硅粒子；所述二氧化硅粒子的平均粒径依据雷射绕射式粒度分析测定法测定时为1μm至15μm；并且所述二氧化硅粒子相对于所述四氟乙烯类树脂100质量份的量为3质量份至30质量份。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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