安徽华远装备科技有限公司吴建清获国家专利权
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龙图腾网获悉安徽华远装备科技有限公司申请的专利一种激光协同辉光等离子磁控溅射设备及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119710602B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510227891.2，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种激光协同辉光等离子磁控溅射设备及方法是由吴建清;梅艳慧;叶显飞设计研发完成，并于2025-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种激光协同辉光等离子磁控溅射设备及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及靶材溅射技术领域，具体涉及一种激光协同辉光等离子磁控溅射设备及方法，通过靶材为空心圆柱形形状，并横向套接于靶支架上，基架为沿溅射腔室内宽度方向上设置的传动轴，基材沿多组传动轴上传送，靶支架内顶端位置设有磁铁组件，用于在靶材外侧形成辉光等离子区域，激光照射组件射出的激光束照射向反射镜组件，并通过反射镜组件旋转不同方向，以使激光束反射向辉光等离子区域，实现协同溅射镀膜，由激光束与辉光的等离子体或者溅射的靶材原子互相影响、互相作用，实现不同形式的镀膜效果，激光与磁场耦合，可以降低溅射电压、降低基材的温度、降低溅射离子对基片膜层的损伤，提高电池效率，提高成膜质量。
本发明授权一种激光协同辉光等离子磁控溅射设备及方法在权利要求书中公布了：1.一种激光协同辉光等离子磁控溅射方法，该方法采用激光协同辉光等离子磁控溅射设备进行溅射，该设备包括溅射腔室100，溅射腔室100内设有用于放置靶材200的靶支架300，以及用于放置基材400的基架500，其特征在于，包括如下步骤： 通过靶材200为空心圆柱形形状，并横向套接于靶支架300上，基架500为沿溅射腔室100内宽度方向上设置的多组传动轴，基材400沿多组传动轴上传送； 靶支架300内顶端位置设有磁铁组件1，用于在靶材200外侧形成辉光等离子区域201，溅射腔室100上设有激光照射组件2，溅射腔室100的内壁上活动设有反射镜组件3，通过激光照射组件2射出的激光束20照射向反射镜组件3，并通过反射镜组件3旋转不同方向，以使激光束20反射向辉光等离子区域201，实现协同溅射镀膜。
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