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龙图腾网获悉苏州芯合半导体材料有限公司申请的专利一种基于微光调制的3D打印精度优化方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120116486B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510608822.6，技术领域涉及：B29C64/386；该发明授权一种基于微光调制的3D打印精度优化方法及系统是由胡永刚;洪从叶;周彪设计研发完成，并于2025-05-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于微光调制的3D打印精度优化方法及系统在说明书摘要公布了：本申请提供了一种基于微光调制的3D打印精度优化方法及系统，涉及材料成型技术领域，包括：对3D数学结构进行结构自适应分区切块，确定多个分区结构；开发光调制器对层投影图案执行微观调制，确定第一激光参数；建立基于3D数学结构的基坐标系，对多个分区结构进行打印轨迹决策，执行多激光头联驱下的多轴坐标系转换，确定第二打印轨迹；耦合第一激光参数与第二打印轨迹，执行多轴同驱打印控制；若存在异构集成，则进行微系统部署。本申请解决了现有技术由于材料成型路径与结构层级之间缺乏耦合机制，导致打印结构精度受限且异构结构集成困难的技术问题，提升了打印精度，增强了复杂结构的协同成型能力。

本发明授权一种基于微光调制的3D打印精度优化方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种基于微光调制的3D打印精度优化方法，其特征在于，所述方法包括： 获取打印产品的3D数学结构，根据层同构性进行结构自适应分区切块，确定多个分区结构，其中，各分区结构对应一个层投影图案； 在3D打印设备的控制系统内开发光调制器，对所述层投影图案执行光学放大下的微观调制，确定激光投影参数与缩影倍率，作为第一激光参数； 建立基于所述3D数学结构的基坐标系，对所述多个分区结构进行基于层投影图案的打印轨迹决策，执行多激光头联驱下的多轴坐标系转换，确定第二打印轨迹； 耦合所述第一激光参数与所述第二打印轨迹，驱动所述3D打印设备执行层投影堆叠下的多轴同驱打印控制； 其中，若存在异构集成，对耦合后的第一激光参数-第二打印轨迹进行微系统部署； 其中，确定激光投影参数，包括： 确定第一层投影图案，其中，所述第一层投影图案为任一分区结构的单打印层的二维结构； 针对所述第一层投影图案，通过所述光调制器，执行基于第一放大倍率的放大处理，确定放大投影图案，其中，所述第一放大倍率以微观可视性进行限定； 针对所述放大投影图案，通过定位投影缺陷进行光场调制，确定激光投影参数； 其中，确定缩影倍率，包括： 根据所述打印产品的尺寸数据，与所述放大投影图案的尺寸数据，计算所述缩影倍率，其中，以打印产品的尺寸数据与放大投影图案的尺寸数据的比值确定所述缩影倍率； 其中，所述缩影倍率响应于激光头的缩影镜头组件，执行缩影调制控制。

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