奥卓真空设备技术(珠海)有限公司张永胜获国家专利权
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龙图腾网获悉奥卓真空设备技术(珠海)有限公司申请的专利一种基于CCP等离子技术的半导体镀膜装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223092814U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520920916.2，技术领域涉及：H01L21/02；该实用新型一种基于CCP等离子技术的半导体镀膜装置是由张永胜;庄炳河;张晓鹏;伍发根;徐旻生;杨凤鸣设计研发完成，并于2025-05-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于CCP等离子技术的半导体镀膜装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种基于CCP等离子技术的半导体镀膜装置，属于半导体镀膜技术领域，包括箱体，所述箱体顶部的中部设置有液压缸，所述箱体一侧固定连接有侧板，所述侧板顶部设置有鼓风机，所述鼓风机顶部设置有出风管，所述鼓风机另一侧设置有进风管，所述箱体外壁的下部设置有驱动电机，所述箱体背门的下部固定连接有承载板，通过设置射频电源与电极板，实现了在对半导体进行镀膜前对半导体进行CCP等离子清洗，不但能够避免半导体单独清洗造成的二次污染，而且又能提高清洗效果，有利于提高半导体镀膜效果，也避免了半导体在放置过程中因半导体表面沾染污染，需要将半导体由镀膜装置内取出重新进行清洗，费时费力，也降低了镀膜效率。
本实用新型一种基于CCP等离子技术的半导体镀膜装置在权利要求书中公布了：1.一种基于CCP等离子技术的半导体镀膜装置，包括箱体（1），其特征在于：所述箱体（1）顶部的中部设置有液压缸（2），所述箱体（1）侧面固定连接有侧板（3），所述侧板（3）顶部设置有鼓风机（4），所述鼓风机（4）顶部设置有出风管（5），所述鼓风机（4）侧面设置有进风管（6），所述箱体（1）外壁的下部设置有驱动电机（7），所述箱体（1）背门的下部固定连接有承载板（8），所述承载板（8）顶部设置有储液箱（9），所述储液箱（9）侧面设置有输送管（10），所述输送管（10）位于箱体（1）内部的一端设置有喷头（30）； 所述箱体（1）内设置有清理腔（11），所述箱体（1）内设置有镀膜腔（13），所述镀膜腔（13）与清理腔（11）之间设置有开口（12），所述开口（12）内壁滑动连接有滑动隔板（14）； 所述清理腔（11）内设置有电极板（29），所述箱体（1）左侧面设置有射频电源（32）。
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