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龙图腾网获悉张盛富申请的专利电磁波反射结构及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114927879B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110137981.4，技术领域涉及：H01Q15/14；该发明授权电磁波反射结构及其制造方法是由张盛富;张嘉展;林士程;陈为旸;林育丞设计研发完成，并于2021-02-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本电磁波反射结构及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种减少布建、维护的花费的电磁波反射结构。本发明还提供一种电磁波反射结构的制造方法包括以下步骤：预设一电磁波的一操作频率、一反射波指向角度、一入射波指向角度，及一入射距离；根据该操作频率、该反射波指向角度、该入射波指向角度及该入射距离获得一电磁波反射结构的一电磁波反射结构相位分布；及根据该电磁波反射结构相位分布对应一反射单元在该操作频率的一反射单元相位曲线，以在一基板上设置所述多个反射单元。

本发明授权电磁波反射结构及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种电磁波反射结构，用于将来自一电磁波来源的一电磁波以一入射波指向角度入射后反射一反射波指向角度，其中该电磁波具有一操作频率，该电磁波反射结构包括一基板及多个反射单元，该基板包括一表面，且该表面界定一基准点，所述多个反射单元设置于该表面，其特征在于，所述多个反射单元中的第i个反射单元的一反射相移关联于该第i个反射单元相对于该基准点的一坐标位置、一操作频率波数、该反射波指向角度，及该电磁波来源对该第i个反射单元的一入射距离，所述多个反射单元中的该第i个反射单元的尺寸是关联于该第i个反射单元在该基板的该反射相移及任一反射单元在该操作频率下的一反射相位， 其中所述多个反射单元包括一第一反射单元、一第二反射单元、一第三反射单元、一第四反射单元、一第五反射单元，及一第六反射单元中任二种以上的组合，该第一反射单元包括二第一金属片及二第二金属片，每一第一金属片呈一马蹄形，所述二第一金属片相对排列成一矩形，且所述二第一金属片之间有一第一间距，每一第二金属片呈一矩形，所述二第二金属片在所述二第一金属片中相邻排列，且所述二第二金属片保持一第二间距，该第二反射单元包括同心间隔排列的二圆环金属片，该第三反射单元包括间隔排列的三矩形金属片，该第四反射单元包括一矩形金属片，该第五反射单元包括一马蹄型金属片及二L型金属片间隔环绕一正方形金属片，该第六反射单元包括一正方形环金属片环绕一正方形金属片。

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