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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于蚀刻腔室的低接触面积基板支撑件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114175231B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080054037.6，技术领域涉及：H01L21/687；该发明授权用于蚀刻腔室的低接触面积基板支撑件是由C·李;M·D·威尔沃斯;J·路德维格设计研发完成，并于2020-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于蚀刻腔室的低接触面积基板支撑件在说明书摘要公布了：本文提供用于在处理腔室中使用的基板支撑件的实施例。在一些实施例中，基板支撑件包括基座，所述基座具有配置成容纳升降杆的上部表面，接近基座的边缘的第一环状区域，以及布置于第一环状区域与基座的中心之间的第二环状区域，其中基座包括从上部表面沿着第一环状区域以规律间隔延伸的第一多个孔洞，以及从上部表面沿着第二环状区域以规律间隔延伸的第二多个孔洞；以及非金属球，所述非金属球包含氧化铝，所述非金属球布置于第一多个孔洞和第二多个孔洞中的每个孔洞中，其中非金属球中的每一者的上部表面相对于基座的上部表面抬升以限定支撑表面。

本发明授权用于蚀刻腔室的低接触面积基板支撑件在权利要求书中公布了：1.一种基板支撑件，包含： 基座，所述基座具有配置成容纳升降杆的上部表面，在所述基座的所述上部表面的边缘处的第一环状区域，以及布置于所述第一环状区域与所述基座的中心之间的第二环状区域，其中所述基座包括从所述上部表面沿着所述第一环状区域以规律间隔延伸的第一多个孔洞，以及从所述上部表面沿着所述第二环状区域以规律间隔延伸的第二多个孔洞，其中所述基座包含第一板和第二板，所述第一板具有限定所述基座的所述上部表面的上部表面，所述第二板耦合至所述第一板的下部表面，其中所述第二板具有大于所述第一板的外径的外径，所述基座包括在所述基座的上部周边边缘处的缺口，所述缺口由所述第二板的上部周边表面和所述第一板的外部侧壁限定，其中所述上部周边表面包括多个第三孔洞，并且进一步包括在与所述多个第三孔洞分离的多个位置处从所述上部周边表面向上延伸的多个销，并且其中至少一个第三孔洞布置在所述多个销中的相邻销之间；以及 非金属球，所述非金属球包含氧化铝，所述非金属球布置于所述第一多个孔洞和所述第二多个孔洞中的每个孔洞中，其中所述非金属球中的每一者的上部表面相对于所述基座的所述上部表面抬升以限定支撑表面。

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