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钕铁硼磁体专利

发布时间:2018-11-29 14:00:42 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 钕铁硼磁体

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申请/专利权人:中磁科技股份有限公司

申请日:2015-12-01

公开(公告)日:2016-03-16

公开(公告)号:CN105405562A

专利技术分类:........和Ⅲa族元素,如Nd2Fe14B[2006.01]

专利摘要:本发明公开了一种钕铁硼磁体,其包括:钕铁硼基体以及合金镀层,其中合金镀层电镀在钕铁硼基体的表面,合金镀层从内至外包括:第一镀层,其为Ni-Cu-Ni层;以及第二镀层,其为Sn层。本发明的钕铁硼磁体的合金镀层孔隙率小,抗盐雾性、耐氧化性、耐腐蚀性以及耐磨性均有所提高。本发明的钕铁硼磁体还具有优良的焊接功能。本发明的钕铁硼磁体的表面具有平滑、不易沾染灰尘和不反光的特点,因此其整体质感增强。

专利权项:一种钕铁硼磁体,其特征在于,所述钕铁硼磁体包括:钕铁硼基体,以及合金镀层,其电镀在所述钕铁硼基体的表面,所述合金镀层从内至外包括:第一镀层,其为Ni‑Cu‑Ni层;以及第二镀层,其为Sn层。

百度查询: 中磁科技股份有限公司 钕铁硼磁体

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