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申请/专利权人：盛美半导体设备(上海)有限公司
申请日：2012-08-15
公开（公告）日：2014-02-19
公开（公告）号：CN103594390A
专利技术分类：.在制造或处理过程中的测试或测量[2006.01]
专利摘要：本发明揭示了一种用于检测二氟化氙气相刻蚀工艺终点的终点检测装置，包括：工艺腔，开设有进气口及排气口；气体浓度检测装置，设置在工艺腔的排气口处，检测从工艺腔中排出的二氟化氙气体的浓度；终点控制装置，与气体浓度检测装置相连，根据气体浓度检测装置的检测结果计算排出的二氟化氙气体的浓度，并将该浓度与预设浓度值比较，若排出的二氟化氙气体的浓度等于或高于预设浓度值，终点控制装置产生并发送控制信号；及进气控制装置，与工艺腔的进气口相连，并通过工艺腔的进气口向工艺腔通入恒定量的二氟化氙气体，进气控制装置接收终点控制装置发送的控制信号后停止向工艺腔通入二氟化氙气体。本发明还揭示了一种终点检测方法。
专利权项：一种终点检测装置，用于二氟化氙气相刻蚀工艺的终点检测，其特征在于，包括：工艺腔，开设有进气口及排气口；气体浓度检测装置，设置在所述工艺腔的排气口处，检测从所述工艺腔排出的二氟化氙气体的浓度；终点控制装置，与所述气体浓度检测装置相连，所述终点控制装置根据所述气体浓度检测装置的检测结果计算从所述工艺腔排出的二氟化氙气体的浓度，并将该浓度与预设浓度值比较，若排出的二氟化氙气体的浓度等于或高于所述预设浓度值，所述终点控制装置产生并发送控制信号；及进气控制装置，与所述工艺腔的进气口相连，并通过所述工艺腔的进气口向所述工艺腔通入恒定量的二氟化氙气体，所述进气控制装置接收所述终点控制装置发送的控制信号后停止向所述工艺腔通入二氟化氙气体。
百度查询： 盛美半导体设备(上海)有限公司 终点检测装置及终点检测方法
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