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申请/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日：2007-08-22
公开（公告）日：2008-07-09
公开（公告）号：CN201083963Y
专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]
专利摘要：一种光刻机投影物镜彗差原位检测系统，包括光源、照明系统、测试掩模、掩模台、投影物镜、工件台、安装在所述工件台上的像传感装置数据采集卡以及计算机。所述像传感装置包括孔径光阑、成像物镜、光电探测器。所述测试掩模由两个互相垂直的线宽较小的移相光栅标记和两个互相垂直的线宽较大的二元光栅标记组成。本实用新型的优点是可以消除畸变对成像位置偏移量的影响，可提高彗差检测精度。
专利权项：1.一种光刻机投影物镜彗差原位检测系统，包括光源1，在该光源1的输出光束上同光轴地依次是照明系统2、测试掩模3、承载测试掩模3的掩模台4、投影物镜5、工件台6及安装在该工件台6上的像传感装置7，该像传感装置7通过数据采集卡8和计算机9相连，其特征在于所述的测试掩模3由两个互相垂直的线宽较小的x方向彗差测量标记31、y方向彗差测量标记33、和两个互相垂直线宽较大的x方向彗差参考标记32和y方向彗差参考标记34构成，所述的x方向彗差测量标记31和y方向彗差测量标记33是移相光栅标记，所述的x方向彗差参考标记32和y方向彗差参考标记34是二元光栅标记，所述像传感装置7包括孔径光阑71、成像物镜72和光电探测器73，所述的光电探测器73通过数据采集卡8和计算机9相连。
百度查询： 中国科学院上海光学精密机械研究所 光刻机投影物镜彗差原位检测系统
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