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申请/专利权人：同方威视技术股份有限公司
申请日：2016-07-20
公开（公告）日：2016-10-26
公开（公告）号：CN106053499A
专利技术分类：...测试缺陷或杂质存在（G01N23/09优先）[2018.01]
专利摘要：本发明公开了一种射线检查系统，包括：门架；射线源，用于发出射线束，所述射线源位于所述门架上且能够在所述门架上移动；多个准直器，用于校准所述射线源发出的射线束以形成有效射线束，所述多个准直器与所述射线源分离设置并且分别独立安装在所述门架上；探测器，用于接收所述有效射线束并转换成输出信号，所述探测器设置在所述门架下方的地沟中；控制器，所述控制器与所述探测器和所述射线源连接；图像生成模块，用于接收所述探测器的输出信号以生成被检查对象的透射图像。
专利权项：一种射线检查系统，包括：门架；射线源，用于发出射线束，所述射线源位于所述门架上且能够在所述门架上移动；多个准直器，用于校准所述射线源发出的射线束以形成有效射线束，所述多个准直器与所述射线源分离设置并且分别独立安装在所述门架上；探测器，用于接收所述有效射线束并转换成输出信号，所述探测器设置在所述门架下方的地沟中；控制器，所述控制器与所述探测器和所述射线源连接；图像生成模块，用于接收所述探测器的输出信号以生成被检查对象的透射图像。
百度查询： 同方威视技术股份有限公司 射线检查系统和射线检查方法
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