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申请/专利权人：常德金德新材料科技股份有限公司
申请日：2017-12-29
公开（公告）日：2018-06-08
公开（公告）号：CN108128032A
专利技术分类：.带有压凸的[2006.01]
专利摘要：本发明公开一种镭射模压方法及镭射模压设备，其中，镭射模压方法包括以下步骤：提供涂布膜和镭射图纹载体膜，所述涂布膜包括基膜和形成于所述基膜上的涂料层，所述镭射图纹载体膜上具有镭射图纹；对所述涂布膜进行预热处理使所述涂布膜的涂料层软化，然后将所述涂布膜与所述镭射图纹载体膜贴合并进行模压，且所述涂料层与所述镭射图纹接触，以使所述镭射图纹压印到所述涂料层上；将所述涂布膜与所述镭射图纹载体膜分离，并对所述涂布膜进行冷却处理使所述涂料层固化成型形成镭射图纹，得到镭射膜。该方法制备得到的镭射膜的质量能达到现有技术水平，符合生产要求，该方法无需使用镭射模压版，从而可以减少镭射模压版的投入，降低生产成本。
专利权项：一种镭射模压方法，其特征在于，包括以下步骤：提供涂布膜和镭射图纹载体膜，所述涂布膜包括基膜和形成于所述基膜上的涂料层，所述镭射图纹载体膜上具有镭射图纹；对所述涂布膜进行预热处理后，再与所述镭射图纹载体膜贴合并进行模压，且所述涂布膜的涂料层与所述镭射图纹载体膜的镭射图纹接触，以使所述镭射图纹载体膜上的镭射图纹压印到所述涂料层上；将所述涂布膜与所述镭射图纹载体膜分离，并对所述涂布膜进行冷却处理以使所述涂料层固化成型形成镭射图纹，得到镭射膜。
百度查询： 常德金德新材料科技股份有限公司 镭射模压方法及镭射模压设备
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