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申请/专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日：2015-06-08
公开（公告）日：2015-09-02
公开（公告）号：CN104880907A
专利技术分类：.未包含在G03F1/20-G03F1/26组中的空白掩膜；其制备[2012.01]
专利摘要：本发明实施例公开一种掩膜装置及掩膜系统。掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于滚筒掩膜版内的光源组件。滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，光源组件的外表上设置有光源。在光源的照射下，滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案。本发明在不需要制作大面积掩膜板的情况下，可在大面积的玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案，从而节省成本。
专利权项：一种掩膜装置，其特征在于，所述掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于所述滚筒掩膜版内的光源组件，所述滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，所述光源组件的外表上设置有光源，在所述光源的照射下，所述滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜图案。
百度查询： 武汉华星光电技术有限公司 掩膜装置及掩膜系统
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