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申请/专利权人：天津津芯微电子科技有限公司
申请日：2016-11-25
公开（公告）日：2018-07-27
公开（公告）号：CN106502057B
专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]
专利摘要：本发明提供了一种标定方法和标定系统，属于光刻技术领域。本发明公开一种标定方法，选定静态图形需要标定的图形点A和点B，根据图形点A和点B的坐标计算得到偏转角αimage；移动XY轴载物平台，使图形点A的中心移动到第一相机的中心点重合，记录平台坐标stageX1，stageY1；移动XY轴载物平台，使图形点B的中心移动到第一相机的中心点重合，记录平台坐标stageX2，stageY2；根据坐标stageX1，stageY1及坐标stageX2，stageY2计算平台偏转角αstage；由αimage、αstage计算旋转角度角α。该方法能够实现平台在线测试旋转角，解决了现有技术中光刻机平台整机组装成功后无法测量偏摆的问题。
专利权项：1.一种标定方法，用于测试空间光调制器相对于XY轴载物平台的旋转角度，其特征在于，所述方法包括：选定静态图形需要标定的图形点A和图形点B，其中，图形点A的中心像素坐标为Xa，Ya，图形点B的中心像素坐标为Xb，Yb，根据图形点A和图形点B的坐标计算得到图形偏转角αimage；移动XY轴载物平台，使图形点A的中心移动到第一相机的中心点重合，记录平台坐标stageX1，stageY1；移动XY轴载物平台，使图形点B的中心移动到第一相机的中心点重合，记录平台坐标stageX2，stageY2；根据坐标stageX1，stageY1及坐标stageX2，stageY2计算平台偏转角αstage；根据αimage、αstage计算旋转角度角α。
百度查询： 天津津芯微电子科技有限公司 标定方法及标定系统
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