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申请/专利权人：艾克斯特朗欧洲公司

申请日：2017-06-08

公开（公告）日：2019-02-05

公开（公告）号：CN109312457A

专利技术分类：.局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的[2006.01]

专利摘要：一种用于在一个或多个基板10上沉积层的装置，具有布置在反应器壳体1中的过程室2；可调温的进气机构3，用于沿通向所述基板10的流动方向S将过程气体流导入所述过程室2；沿流动方向S直接布置在至少一个进气机构3的排气面之后的屏蔽元件6，该屏蔽元件处于屏蔽位置时将至少一个进气机构3和所述基板10相互热隔离；多个沿流动方向S布置在屏蔽元件6之后的遮罩支架7、7’，分别用于固持遮罩8、8’；彼此实体分离的基板架9、9’，用于固持所述基板10中的至少一个，所述基板架9、9’分别对应于多个遮罩支架7、7’中的一个并且沿流动方向S布置在所述遮罩8、8’之后；其中，针对多个基板架9、9’中的每一个均设有移动机构11、11’，用于将所述基板架9、9’从相对遮罩支架7、7’的远离位置移动至相对遮罩支架7、7’的邻近位置，在远离位置上，所述基板架9、9’可装载和可卸载基板10、10’，在邻近位置上，布置在所述基板架9、9’上的基板10、10’能够以贴靠在遮罩8、8’上的贴靠位置被涂层。

专利权项：1.一种用于在一个或多个基板10上沉积层的装置，具有布置在反应器壳体1中的过程室2及以下特征：a至少一个可调温的进气机构3，用于沿通向所述基板10的流动方向S将过程气体流导入所述过程室2；b至少一个沿流动方向S直接布置在至少一个进气机构3的排气面之后的屏蔽元件6，所述屏蔽元件处于屏蔽位置时将至少一个进气机构3和所述基板10相互热隔离；c多个沿流动方向S布置在屏蔽元件6之后的遮罩支架7、7’，分别用于固持遮罩8、8’；d多个彼此实体分离的基板架9、9’，用于固持所述基板10中的至少一个，所述基板架9、9’分别对应于多个遮罩支架7、7’中的一个并且沿流动方向S布置在所述遮罩8、8’之后；e针对多个基板架9、9’中的每一个的移动机构11、11’，用于将所述基板架9、9’从相对遮罩支架7、7’的远离位置移动至相对遮罩支架7、7’的邻近位置，在远离位置上，所述基板架9、9’可装载和可卸载基板10、10’，在邻近位置上，布置在所述基板架9、9’上的基板10、10’能够以贴靠在遮罩8、8’上的贴靠位置被涂层；f其中，屏蔽元件6是统一的屏蔽元件，或者设有多个屏蔽元件，其中，一个或多个屏蔽元件处于屏蔽位置时同时布置在所有遮罩支架7、7’与至少一个进气机构3的所有排气面之间，并且在同时涂布多个基板10、10’期间同时被容纳在保存室17中。

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