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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2003-05-30
公开（公告）日：2009-10-07
公开（公告）号：CN101553074A
专利技术分类：..应用外加电磁场的，例如高频能或微波能（H05H1/26优先）[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种顶板，其用于在处理容器内使高频通过而生成等离子体，该顶板的特征在于：所述顶板由电介质构成，且具有波反射部件，在所述顶板的内部传播时，该波反射部件在该顶板内部反射高频，所述波反射部件具有从所述顶板的表背的至少一个表面凹陷的凹部，该凹部的变薄的部分的厚度为所述高频在所述顶板中传播时的波长的12倍以下。
专利权项：1.一种顶板，其用于在处理容器内使高频通过而生成等离子体，该顶板的特征在于：所述顶板由电介质构成，且具有波反射部件，在所述顶板的内部传播时，该波反射部件在该顶板内部反射高频，所述波反射部件具有从所述顶板的表背的至少一个表面凹陷的凹部，该凹部的变薄的部分的厚度为所述高频在所述顶板中传播时的波长的12倍以下。
百度查询： 东京毅力科创株式会社 顶板
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