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申请/专利权人：高知有限公司
申请日：2011-05-03
公开（公告）日：2016-01-20
公开（公告）号：CN103004287B
专利技术分类：.微波加热[2006.01]
专利摘要：在此披露了一种用于将电磁能施加到能量施加带中的物体上的设备和方法。至少一个处理器可被配置为使电磁能以多个电磁场场图被施加给该能量施加带中的该物体。该处理器可进一步被配置为针对该多个场图中的每一者而确定在该能量施加带耗散的功率量值。该处理器也可被配置为基于当该多个场图施加到该能量施加带时耗散的功率量值而确定该能量施加带的至少一部分上的能量吸收特性的空间分布。
专利权项：一种用于经由至少一个辐射元件将电磁能施加到能量施加带中的物体上的设备，该设备包括：至少一个处理器，该至少一个处理器被配置为：使得将电磁能以多个电磁场场图施加给该能量施加带中的该物体；对于该多个电磁场场图中的每一者，确定在该能量施加带中耗散的功率量值；以及基于当该多个电磁场场图中的每一者施加到该能量施加带时耗散的功率量值而确定该能量施加带的至少一部分上的能量吸收特性的空间分布；其中所述电磁能是RF能量，以及该至少一个处理器被配置为通过使RF能量以多个调制空间元素θj被施加来使该电磁能以多个电磁场场图被施加，每个调制空间元素定义该能量施加带的每个区Ri内的场强度Iij的特定的RF场图；并且其中该至少一个处理器被配置为基于以每个调制空间元素在该能量施加带中耗散的该功率量值和该场强度Iij确定能量吸收特性的该空间分布。
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