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成像设备、聚焦方法、聚焦控制方法专利

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申请/专利权人:株式会社理光

申请日:2005-01-14

公开(公告)日:2005-10-05

公开(公告)号:CN1678034A

专利技术分类:

专利摘要:一种成像设备,其实现了高速自动聚焦操作并减少了功耗,以及防止由于错误测定引起的误聚焦。该成像设备具有自动聚焦功能,其检测聚焦透镜的当前位置。在被检测的聚焦透镜的当前位置附近的有限范围被指定为聚焦范围。聚焦透镜的可移动范围根据被指定的聚焦范围而改变。

专利权项:1.一种具有自动聚焦功能的成像设备,包括:聚焦透镜位置检测装置,用于检测聚焦透镜的当前位置;其特征在于:聚焦范围指定装置,用于指定位于聚焦透镜的当前位置附近的有限范围作为聚焦范围,其中聚焦透镜的当前位置由所述聚焦透镜位置检测装置检测;以及聚焦透镜可移动范围改变装置,用于根据聚焦范围改变聚焦透镜的可移动范围,其中该聚焦范围由所述聚焦范围指定装置指定。

百度查询: 株式会社理光 成像设备、聚焦方法、聚焦控制方法

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