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申请/专利权人：德山曹达株式会社
申请日：1985-11-07
公开（公告）日：1986-06-10
公开（公告）号：CN85108158A
专利技术分类：
专利摘要：这是一种在导电性电极基体的表面设置了Ni含有量为25～29％重量的Ni-Sn合金之活性层的阴极。把这种阴极使用在通过电解进行的发生氢气的过程中时，其氢过电压可以控制在显著低的值上。所说的活性层是通过来自含有镍离子以及锡离子的镀液的共电析，或者是通过镍化合物以及锡化合物之混合物的热分解来形成的。
专利权项：1、一种阴极，其特征是，在导电性电极基体的表面存在着至少由镍锡合金所成的活性层，该活性层中镍的含有率为25～99%。
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