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申请/专利权人：株式会社小糸制作所
申请日：2012-03-20
公开（公告）日：2014-11-05
公开（公告）号：CN102689439B
专利技术分类：..使用波动能量或粒子辐射[2006.01]
专利摘要：本发明涉及熔敷方法以及熔敷装置。本发明的熔敷技术系在第一部件1上使得具有光透过性的第二部件2密接，从第二部件2侧照射被偏转控制的激光L，在熔敷面R熔敷两部件，压板14配设在第二部件2的光照射面侧，入射角调整阶梯141设在压板14，构成反射率减少手段，通过该反射率减少手段，减小第一部件1和第二部件2的在光照射面的光的入射角θ1，θ2，减少在光照射面的激光的反射损耗，提高熔敷效率。在通过照射光进行部件熔敷的熔敷技术中，减少照射光的反射损耗，实现熔敷效率高的熔敷。
专利权项：一种熔敷方法，在第一部件上使得具有光透过性的第二部件密接,从上述第二部件侧照射由光偏转装置偏转控制的光,在上述密接面熔敷两部件,其特征在于:通过配设在上述第二部件的光照射面侧的反射率减少手段,减少照射在上述第二部件的光的反射率；上述反射率减少手段为减少照射在上述密接面的光的入射角的光学阶梯。
百度查询： 株式会社小糸制作所 熔敷方法以及熔敷装置
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