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申请/专利权人：肖特股份公司

申请日：2007-11-09

公开（公告）日：2010-12-01

公开（公告）号：CN101225514B

专利技术分类：...采用脉冲放电[2006.01]

专利摘要：在使用包括PECVD和PICVD方法的CVD方法的情况下，本发明的目的在于避免杂质并尽可能定时定量精确供应用于目标层系统的过程气体。为此，本发明提供一种涂敷系统和涂敷具有交替层的制品的方法，在这种情况下，将过程气体以交替形式引入到气体混合点并与另一气体混合，然后导入反应室，在反应室中通过产生等离子体来进行沉积。

专利权项：1.一种用于涂敷具有交替层的制品的涂敷系统，包括：待涂敷制品布置在其中的至少一个反应室，或者是用于形成具有待涂敷制品的反应室的装置；电磁能量源，其能以脉冲形式工作以在反应器内激发出脉冲式等离子体；涂敷过程中所使用过程气体的供应器，所述过程气体能够通过涂敷系统的气体转换装置引入到反应室中；气体转换装置包括至少一个气体混合点，通到所述气体混合点的包括设有阀的用于各种前驱体气体的至少两条供应管线、用于另一气体的至少一条供应管线、以及通向反应室的排出管线，所述另一气体用于在气体混合点中与通过一个阀引入的一种前驱体气体混合以产生不同的过程气体混合物，用于另一气体的供应管线与通向反应室的排出管线在两个阀之间的连接部中连接，而且，在每种情况下对于用于各种前驱体气体的供应管线中的每条提供连接到泵送装置的支路管线，在每种情况下将另一阀连接到支路管线中，并且为阀和电磁能量源提供控制装置，所述控制装置为了改变过程气体混合物而控制支路管线中的阀和用于各种前驱体气体的供应管线的阀，使得关闭一种前驱体气体供应管线中的阀，而同时打开用于该前驱体气体的支路管线中的阀，并相反地打开供应另一前驱体气体的供应管线中的阀，而同时关闭用于该另一前驱体气体的支路管线中的阀，并且所述控制装置根据阀切换时间来设定用于沉积交替层系统的一层的脉冲系列开始的时刻，所述控制装置在脉冲系列之间设定持续时间至少为0.8×|tadvance-treturn|且至多为5×|tadvance-treturn|的停顿，tadvance表示气体从气体混合点到达反应室需要的持续时间，treturn表示清空先前位于反应室中的过程气体混合物需要的持续时间。

百度查询： 肖特股份公司 涂敷系统、涂敷方法和涂敷制品