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申请/专利权人：卡西欧迈克罗尼克斯株式会社;村田株式会社
申请日：2003-08-21
公开（公告）日：2008-04-09
公开（公告）号：CN100379896C
专利技术分类：
专利摘要：本发明的化学处理装置是装置30，在待成膜的材料C1上形成的铬膜被该装置刻蚀成预定图案。这一装置包括：阴极电解还原设备31，用于使用含有氯离子的处理溶液对作为阴极的铬膜进行电解还原处理，和酸浸泡设备33，用于在由阴极电解还原设备31进行电解还原处理之后将铬膜浸泡在酸性处理溶液中。
专利权项：1.化学处理方法，使用该方法将待成膜的材料上形成的金属膜刻蚀成预定图案，所述金属膜是由选自铬、钛、钨、钯和钼中的一种金属或者含有铬、钛、钨、钯和钼中的至少一种的合金形成的，所述化学处理方法的特征包括：通过使用含有酸根的第一酸性处理溶液或含有卤素离子的碱性处理溶液，对作为阴极的金属膜进行电解还原处理的阴极电解还原步骤；和在阴极电解还原步骤之后，将金属膜浸泡在第二种酸性处理溶液中的酸浸泡步骤。
百度查询： 卡西欧迈克罗尼克斯株式会社 村田株式会社 化学处理方法和化学处理装置
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