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申请/专利权人：株式会社尼康
申请日：2004-03-17
公开（公告）日：2013-03-27
公开（公告）号：CN101980087B
专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]
专利摘要：本发明公开浸没曝光设备和浸没曝光方法，用于在更换平板印刷机10中工件208期间，将浸没流体212保持在邻接投射透镜16的间隙。该设备和方法包括光学组件16和台组件202，前者作成为可以将图像投射到工件208，后者包括工件座204，该工件座作成为可以支承邻接光学组件16的工件208。配置外围系统26，向台组件202光学组件16和工件208之间形成的间隙输送浸没流体212，从该间隙中除去该浸没流体212。在完成工件208曝光后，更换系统216取下工件208，用第二工件替换该工件。配置浸没流体约束系统214，在取下第一工件208，用第二工件代替时，可以将浸没流体212保持在该间隙。
专利权项：一种以光束曝光晶片的浸没曝光设备，包括：光学组件，所述光束透过所述光学组件照射到所述晶片上；晶片座，可支撑所述晶片并且相对所述光学组件来移动；以及垫板，可相对所述晶片座来移动并且可相对所述光学组件来定位在所述晶片座的位置上，以当所述晶片座以远离所述光学组件下方来移动时，实质上维持浸没流体在所述光学组件的下方的空间中，其中在所述晶片座以远离所述光学组件的下方来移动之前，调节所述晶片座和所述垫板的至少一个的垂直位置和或倾斜度。
百度查询： 株式会社尼康 浸没曝光设备以及浸没曝光方法
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