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申请/专利权人：自适应等离子体技术株式会社
申请日：2004-06-25
公开（公告）日：2005-02-09
公开（公告）号：CN1578583A
专利技术分类：.等离子体的产生[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种用于产生等离子的等离子源线圈和使用等离子源的等离子腔。等离子源线圈接收来自电源的电力，以在预定的反应空间产生均匀的等离子。等离子源线圈包括m在此，m≥2且m为整数个单元线圈。每个单元线圈都具有n圈在此，n为正实数。单元线圈从位于等离子源线圈中心并具有预定半径的线圈套管延伸，并设置为以螺旋形状环绕线圈套管。
专利权项：1.一种用于在预定的反应空间产生等离子的等离子源线圈，所述等离子源线圈包括：m个单元线圈，每个单元线圈都具有n圈，其在从等离子源线圈中心具有预定半径的线圈套管延伸并环绕线圈套管以螺旋形状设置，其中m为大于或等于2的整数，而n为正实数。
百度查询： 自适应等离子体技术株式会社 产生等离子的等离子源线圈和使用等离子源的等离子腔
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皖公网安备 34010402703815号