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申请/专利权人：佳能安内华股份有限公司
申请日：2008-02-04
公开（公告）日：2009-09-23
公开（公告）号：CN101542694A
专利技术分类：.......由氧化物或玻璃状氧化物或以氧化物为基础的玻璃组成的无机层[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种氧化方法和氧化装置，其中，通过具有若干通孔的隔离物连接具有氧化气体供给端口的等离子体产生室和具有排放端口并在内部具有衬底基座的衬底处理室，产生供给到等离子体产生室中的氧化气体的等离子体，并且通过将产生的活性物种供给到衬底上而在衬底表面上形成氧化物层，它们的特征在于，隔离物通过开关机构与电源连接，使得正电压、负电压或零电压被施加到隔离物，并且，通过在氧化过程期间切换电压至少一次而改变供给到衬底上的活性物种中的基团、正离子和负离子的比率，从而执行氧化过程。
专利权项：1.一种通过将氧化气体等离子体中的基团、正离子或负离子的活性物种供给到衬底上而在衬底表面上形成氧化物层的氧化方法，所述方法包括以下步骤：通过以预定的比率设置供给到所述衬底上的所述活性物种中的所述基团、正离子和负离子而执行氧化过程，并通过改变所述比率而进一步执行氧化过程。
百度查询： 佳能安内华股份有限公司 氧化方法和氧化装置
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