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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2011-09-14
公开（公告）日：2012-04-04
公开（公告）号：CN102404891A
专利技术分类：.微波加热[2006.01]
专利摘要：本发明的目的在于提供一种使用多个磁控管以减少反射电力，从而能够照射微波的微波照射装置以及微波照射方法。微波照射装置100包括：收纳被处理体的腔室1；通过供给电压使其产生微波，将该微波照射在所述腔室1内的被处理体上的多个磁控管10a、10b；以及向这些多个磁控管10a、10b供给脉冲状电压的电源部20，电源部20按照被分别供给多个磁控管10a、10b的脉冲状电压的电压脉冲彼此在时间上不重叠的方式供给电压。
专利权项：一种微波照射装置，其特征在于，包括：收纳被处理体的腔室；通过被供给电压而产生微波，将该微波照射在所述腔室内的被处理体的多个磁控管；以及向所述多个磁控管供给脉冲状电压的电源部，其中，所述电源部按照被分别供给至所述多个磁控管的脉冲状电压的电压脉冲彼此在时间上不重叠的方式供给电压。
百度查询： 东京毅力科创株式会社 微波照射装置以及微波照射方法
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