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申请/专利权人：日本财团法人高知县产业振兴中心;卡西欧计算机株式会社
申请日：2008-12-25
公开（公告）日：2009-07-01
公开（公告）号：CN101469417A
专利技术分类：...采用等离子流[2006.01]
专利摘要：本发明公开了沉积设备和沉积方法，所述沉积设备包括：用于放置处理对象的第一电极；用于和第一电极产生等离子体的第二电极，第二电极和第一电极相对；和用于冷却处理对象的冷却部件，其中，在所述处理对象和所述冷却部件之间，与处理对象的中心部分和冷却部件之间的热阻相比，中心部分周围的周围部分和冷却部件之间的热阻较小。
专利权项：1.沉积设备，其包含：用于放置处理对象的第一电极；用于和所述第一电极产生等离子体的第二电极，第二电极和第一电极相对；和用于冷却处理对象的冷却部件，其中，在所述处理对象和所述冷却部件之间，与处理对象的中心部分和冷却部件之间的热阻相比，中心部分周围的周围部分和冷却部件之间的热阻较小。
百度查询： 日本财团法人高知县产业振兴中心 卡西欧计算机株式会社 沉积设备和沉积方法
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