龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2012-03-15
公开（公告）日：2012-09-19
公开（公告）号：CN102681356A
专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种局部曝光方法以及局部曝光装置，容易地调整在基板面内精确地设定的每个区域的曝光量，提高显影处理后的抗蚀剂残膜的均匀性，抑制布线图案的线宽以及间距的偏差。该局部曝光方法具备以下步骤：针对形成于被处理基板G的感光膜的规定区域，根据其膜厚来求出要照射的目标照度；确定能够照射到上述规定区域的至少一个发光体；关于所确定的上述一个发光体GR，在与该发光体相邻的其它发光体能够照射到上述规定区域内的情况下，从上述目标照度中减去由该其它发光体的发光引起的干涉光的照度，将所算出的该值设为校正后的设定照度；以及根据校正后的上述设定照度来决定驱动电流值，根据该驱动电流值使上述一个发光体发光。
专利权项：一种局部曝光方法，在将基板以水平状态进行水平方向输送的基板输送路径的上方，将由在与基板输送方向交叉的方向上线状地排列的多个发光元件中的一个或者多个发光元件构成的发光体作为发光控制单位而选择性地进行发光驱动，通过上述发光体对在上述发光体的下方沿基板输送方向相对于上述发光体移动的上述基板上的感光膜实施曝光处理，该局部曝光方法的特征在于，具备以下步骤：目标照度计算步骤：针对在上述基板上形成的感光膜的规定区域，根据其膜厚来求出要照射的目标照度；发光体确定步骤：确定能够照射到上述规定区域的至少一个发光体；设定照度计算步骤：针对所确定的一个发光体，在与该一个发光体相邻的其它发光体能够照射到上述规定区域内的情况下，从上述目标照度中减去由上述其它发光体的发光引起的干涉光的照度，并将所算出的值设为校正后的设定照度；以及驱动电流值确定步骤：根据校正后的上述设定照度来决定驱动电流值，根据该驱动电流值使上述一个发光体发光。
百度查询： 东京毅力科创株式会社 局部曝光方法以及局部曝光装置
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号