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除草混合物专利

发布时间:2019-05-29 15:36:03 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 除草混合物

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申请/专利权人:先正达参股股份有限公司

申请日:2017-09-29

公开(公告)日:2019-05-21

公开(公告)号:CN109788757A

专利技术分类:..六元环[2006.01]

专利摘要:本发明提供了一种组合物,所述组合物包含:A具有式I的化合物,其中R1是甲基或甲氧基,R2是氢、甲基或乙氧基,并且A是取代的杂芳基,或其N‑氧化物或盐形式,以及B一种或多种另外的除草剂;以及此类组合物在控制植物或抑制植物生长中的用途。

专利权项:1.一种组合物,其包含:A具有式I的化合物:其中R1是甲基或甲氧基,R2是氢、甲基或乙氧基,并且A是取代的杂芳基,并且其中所述化合物选自下组,该组由以下各项组成:或其N‑氧化物或盐形式,以及B一种或多种具有式II的化合物其中,R11是H、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基或C4‑C8环烷基;R6是H、C1‑C6烷基、或C1‑C6烷氧基;Q1是任选地取代的环体系,所述环体系选自下组,该组由以下各项组成:苯基、噻吩基、吡啶基、苯并间二氧杂环戊烯基、萘基、萘基、苯并呋喃基、呋喃基、苯并噻吩基、和吡唑基,其中当被取代时,所述环体系被1至3个R4所取代;Q2是任选地取代的环体系,所述环体系选自下组,该组由以下各项组成:苯基、吡啶基、苯并间二氧杂环戊烯基、吡啶酮基、噻二唑基、噻唑基、和噁唑基,其中当被取代时,所述环体系被1至3个R5所取代;每个R4独立地是卤素、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C3‑C8环烷基、氰基、C1‑C6烷硫基、C1‑C6烷基亚磺酰基、C1‑C6烷基磺酰基、SF5、NHR8、任选地被1‑3个R7取代的苯基、或任选地被1‑3个R7取代的吡唑基;每个R5独立地是卤素、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、氰基、硝基、C1‑C6烷硫基、C1‑C6烷基亚磺酰基、或C1‑C6烷基磺酰基;每个R7独立地是C1‑C6烷基、卤素、或C1‑C6卤代烷基;并且R8是C1‑C4烷氧基羰基。

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