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申请/专利权人：深圳光峰科技股份有限公司
申请日：2014-12-12
公开（公告）日：2020-02-28
公开（公告）号：CN105739101B
专利技术分类：.其他位置不包括的光束整形，例如改变横截面积[2006.01]
专利摘要：本发明公开了一种匀光结构及匀光系统，包括：匀光基板，匀光基板包括基板本体，和位于基板本体任意一表面的第一图案结构，第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；以及，位于匀光基板任意一表面一侧的反射层，且反射层的反射面朝向匀光基板。在匀光基板的任意一表面设置一反射层，当入射光束照射到匀光基板未设置反射层一侧表面时，部分光线被该表面反射；而后部分光线入射至反射层的表面后，被反射出匀光基板，因此被匀光结构匀光后的光束为二次反射后的光束。即本发明提供的匀光结构将高斯分布的入射光束，整形为平顶分布的光束，该光束扩散角度小，有利于光束的收集，满足了显示系统体积小、质量轻等要求。
专利权项：1.一种匀光结构，其特征在于，包括：匀光基板，所述匀光基板包括基板本体，和位于所述基板本体任意一表面的第一图案结构，所述第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；以及，位于所述匀光基板任意一表面一侧的反射层，且所述反射层的反射面朝向所述匀光基板，其中，所述入射光的部分光线被所述匀光基板未设置所述反射层一侧表面反射为第一反射光束，及所述入射光的另一部分光线被所述反射层反射为第二反射光束，所述第一反射光束和所述第二反射光束为所述匀光结构的出光，进而所述匀光结构将高斯分布的所述入射光束，整形为平顶分布光束。
百度查询： 深圳光峰科技股份有限公司 匀光结构及匀光系统
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