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申请/专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日：2018-03-16
公开（公告）日：2020-06-05
公开（公告）号：CN108514996B
专利技术分类：..在涂布以后完成辅助操作（B05C9/14优先）[2006.01]
专利摘要：本申请公开一种胶体涂布方法及胶体涂布装置。所述胶体涂布方法包括：设置与基板垂直的挡板，所述挡板高于所述基板的上表面，且在基板上限定待涂布区域；在所述待涂布区域注入胶水；对注入胶水的基板进行震动；对胶水进行固化；撤去挡板。基于此，本申请能够形成厚度均匀的胶体，有利于满足柔性显示装置对胶体的涂布要求。
专利权项：1.一种胶体涂布方法，其特征在于，所述方法包括：设置与基板垂直的挡板，所述挡板高于所述基板的上表面，且在所述基板上限定待涂布区域；通过所述挡板内部的加热元件对所述挡板进行加热以使所述挡板保持预定温度；其中，所述预定温度等于或大于所述挡板热膨胀所需的温度，以使得所述挡板处于热膨胀状态；在所述待涂布区域注入胶水；对注入所述胶水的基板进行震动；对所述胶水进行固化，以使得所述胶水固化为胶体；对所述挡板吹送冷风以降温，以使得所述挡板冷缩发生形变而与所述胶体自然分离；撤去所述挡板。
百度查询： 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 胶体涂布方法及胶体涂布装置
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