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申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日：2020-06-18
公开（公告）日：2020-10-13
公开（公告）号：CN111766760A
专利技术分类：.具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备[2012.01]
专利摘要：本发明公开了一种辅助图形嵌入方法，其用于光刻掩膜版制造，包括识别设计规则中的主要图形，所述主要图形是光刻掩膜版上用于形成器件功能区的图形；将小于预设Pitch阈值的主要图形拟合形成主要图形虚拟合集；根据设计规则在主要图形虚拟合集旁侧嵌入辅助图形，所述辅助图形是集成电路生产过程中的辅助透光图形。将图形虚拟合集恢复为主要图形，完成辅助图形嵌入。本发明还公开了一种辅助图形嵌入模块。本发明能提高光刻掩膜版辅助图形嵌入计算效率和嵌入计算精度。
专利权项：1.一种辅助图形嵌入方法，其用于光刻掩膜版制造工艺，其特征在于，包括以下步骤：S1，识别设计规则中的主要图形，所述主要图形是光刻掩膜版上用于形成器件功能区的图形；S2，将小于预设Pitch阈值的主要图形拟合形成主要图形虚拟合集；S3，根据设计规则在主要图形虚拟合集旁侧嵌入辅助图形，所述辅助图形是集成电路生产过程的辅助透光图形。S4，将图形虚拟合集恢复为主要图形，完成辅助图形嵌入。
百度查询： 上海华力集成电路制造有限公司 辅助图形嵌入方法及嵌入模块
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