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申请/专利权人：新代科技(苏州)有限公司

申请日：2020-10-23

公开（公告）日：2021-01-08

公开（公告）号：CN112192034A

专利技术分类：..激光刻蚀[2014.01]

专利摘要：本发明公开了一种镭射加工系统及其镭射加工方法，它包括：光源模组；所述加工路径包括位于所述第一加工区域的第一加工段以及位于所述第二加工区域的第二加工段；移动机构，所述移动机构用于改变所述工件与所述光源模组之间的相对位置；以及控制单元，所述控制单元耦接所述移动机构与所述光源模组，所述控制单元控制所述移动机构与所述光源模组以使所述光源模组于所述加工路径进行相对移动并提供该光线；所述加工图案包括第一图案与相邻于所述第一图案的第二图案。可以减少第一图案与第二图案之间拆分位置的可视性，也能够增加整体镭射加工系统的加工效率，缩短镭射加工的时间。

专利权项：1.一种镭射加工系统，用于对工件的待加工表面进行镭射加工形成加工图案，所述待加工表面包括第一加工区域以及邻接于所述第一加工区域的第二加工区域，所述加工图案跨越所述第一加工区域与所述第二加工区域，其特征在于，它包括：光源模组，所述光源模组提供光线照射所述待加工表面，所述光源模组沿位于所述待加工表面的加工路径进行相对移动时提供所述光线以形成所述加工图案；所述加工路径包括位于所述第一加工区域的第一加工段以及位于所述第二加工区域的第二加工段；移动机构，所述移动机构用于改变所述工件与所述光源模组之间的相对位置；以及控制单元，所述控制单元耦接所述移动机构与所述光源模组，所述控制单元控制所述移动机构与所述光源模组以使所述光源模组于所述加工路径进行相对移动并提供该光线；所述加工图案包括第一图案与相邻于所述第一图案的第二图案；所述控制单元控制所述光源模组于所述第一加工段进行相对移动时提供所述光线以于所述待加工表面形成所述第一图案，以及所述控制单元控制所述光源模组于所述第二加工段进行相对移动时提供所述光线以于所述待加工表面形成所述第二图案；所述加工图案还包括位于所述第一图案与所述第二图案之间且包含至少部分所述第一图案与至少部分所述第二图案的图案相邻区，所述第一图案在所述图案相邻区内还包括多个第一线段，所述第二图案在所述图案相邻区内还包括多个第二线段，每两个相邻的所述第一线段的长度彼此不相同，每两个相邻的所述第二线段的长度彼此不相同，各所述第一线段远离所述第二图案的一端构成所述图案相邻区的第一边界，各所述第二线段远离所述第一图案的一端构成所述图案相邻区的第二边界，各所述第一线段的长度与邻接所述第一线段的所述第二线段长度总和等于所述第一边界与所述第二边界的间距。

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