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申请/专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日：2020-06-02
公开（公告）日：2021-03-19
公开（公告）号：CN111485222B
专利技术分类：.以沉积金属材料以外之无机材料为特征的[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种沉积设备，包括处理腔室；多个气体注入源，设置在所述处理腔室内，且包括用于主反应流程的至少一个第一气体注入源和不用于所述主反应流程的至少一第二气体注入源，所述第一气体注入源设计为沿第一方向向所述处理腔室内注入第一气体；其中以所述第一方向为参考，所述第二气体注入源位于所述第一气体注入源的上游。
专利权项：1.一种沉积设备，包括：处理腔室；多个气体注入源，设置在所述处理腔室内，且包括用于主反应流程的至少一个第一气体注入源和不用于所述主反应流程的至少一第二气体注入源，所述第一气体注入源设计为沿第一方向向所述处理腔室内注入第一气体；其中以所述第一方向为参考，所述第二气体注入源位于所述第一气体注入源的上游；所述第一方向朝向所述处理腔室的内侧壁且与所述处理腔室的内侧壁或所述内侧壁的切线的夹角为锐角；所述第一气体包括硅烷，所述第二气体注入源的注入气体包括以下任一或其组合：氯气、氟气、氮气、氧气和氨基硅烷。
百度查询： 长江存储科技有限责任公司 沉积设备和沉积方法
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