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申请/专利权人：国轩高科美国研究院

申请日：2017-01-27

公开（公告）日：2021-09-17

公开（公告）号：CN108884115B

专利技术分类：.硼化合物[2006.01]

专利摘要：一种制备含有阳离子K和阴离子A的硼酸铵或硼酸磷盐KA的方法，包括步骤：a提供硼酸盐K1A的熔体，b在溶剂或溶剂混合物i中加入铵盐或磷盐KA1溶液；其中，K是有机铵或磷阳离子；A是式Ia或Ib的硼酸根阴离子，

专利权项：1.一种制备含有阳离子K和阴离子A的硼酸铵或硼酸磷盐KA的方法，包括步骤：a提供硼酸盐K1A的熔体，b在溶剂或溶剂混合物i中加入温度低于25℃的铵盐或磷盐KA1溶液，获得的混合物进行冷却；其中，K是有机铵或磷阳离子；A是式Ia或Ib的硼酸根阴离子， 其中Hal是卤素，和 是双齿基，该双齿基衍生自，在1,2-、1,3-或1,4-位上提取相应二醇、羟基羧酸或二羧酸的邻近OH基团的两个H原子对的，1,2-、1,3-或1,4-二醇，1,2-、1,3-或1,4-二羧酸或1,2-、1,3-或1,4-羟基羧酸；溶剂或溶剂混合物i含有至少一种选自水和C1至C6醇的溶剂；A1为式[R9-SO3]-的阴离子、Cl-、Br-或I-，其中R9选自C1-C20烷基、C2-C20烯基、C2-C20炔基、C5-C12芳基或杂芳基和C6-C24芳烷基或杂芳烷基，其能被选自F、环丙基、1,2-环氧乙基和磺酸盐的一个或多个基团取代，并且其中不直接与SO3-基团键合的烷基、烯基、炔基和杂芳烷基或芳烷基的一个或多个CH2基团能被O、1,2-环氧乙烯、环丙烯、OSO2或SO2O取代；和K1是与K不同的铵阳离子；K1为式[NR5R6R7R8]+的阳离子；其中R5、R6、R7和R8彼此独立地选自H和C1-C20烷基，或其中R5和R6相连并共同选自与中心N-原子一起形成五元或六元杂环的4-至5-元烃基，该杂环能被选自C1-C10烷基的一个或多个取代基取代，并且其中4元-5元烃基的一个或多个位置能被一个或多个O、S或NR”取代；和R”选自H和C1-C10烷基；其中，步骤b中使用的K1A与KA1的摩尔比高于1：1；其中，化合物KA在步骤b进行中或之后沉淀，并从含有所述溶剂或溶剂混合物i和溶解形式的K1A1的混合物中分离。

百度查询： 国轩高科美国研究院 硼酸铵盐或硼酸磷盐的制备