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申请/专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日：2021-06-30
公开（公告）日：2021-10-01
公开（公告）号：CN113463021A
专利技术分类：.局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物[2006.01]
专利摘要：本发明实施例公开了一种冷却装置及其冷却方法；该冷却装置应用于蒸镀设备，该冷却装置包括：主体部件，包括支撑构件和与该支撑构件连接的热交换构件；弹性部件，与该主体部件连接且设置于该主体部件远离该热交换构件的一侧，该弹性部件用于与待冷却构件接触；其中，该弹性部件与该主体部件构成闭合结构；本发明实施例通过将冷却装置的贴合一侧设置为弹性部件，在对基板进行蒸镀时，减少了冷却装置对基板的划伤，加强冷却装置与基板的贴合，提高了对基板的工艺精度。
专利权项：1.一种冷却装置，应用于蒸镀设备，其特征在于，所述冷却装置包括：主体部件，包括支撑构件和与所述支撑构件连接的热交换构件；弹性部件，与所述主体部件连接且设置于所述主体部件远离所述热交换构件的一侧，所述弹性部件用于与待冷却构件接触；其中，所述弹性部件与所述主体部件构成闭合结构。
百度查询： 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 冷却装置及其冷却方法
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